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삼성전자, 업계 최초 EUV 기반 D램 양산…반도체 초격차 이어간다

머니투데이방송 조은아 기자echo@mtn.co.kr2020/03/25 11:36

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[앵커멘트]
삼성전자가 업계 최초로 D램에 극자외선(EUV) 공정을 적용한 양산 체제를 갖췄습니다. 차세대 D램 제품부터 EUV 공정을 전면 적용할 예정으로 '메모리 반도체' 초격차를 이어가겠다는 전략입니다. 조은아 기자 입니다.

[기사내용]
삼성전자가 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 양산 체제를 구축했습니다.

삼성전자는 EUV 공정으로 만든 1세대 10나노급 D램 모듈 100만개를 글로벌 고객사에 공급해 평가를 완료했습니다.

삼성전자는 차세대 D램, 즉 '4세대 10나노급 D램'을 EUV 공정 방식으로 개발하고 있는데, 본격적인 양산에 앞서 기존 제품으로 테스트를 마친 것입니다.

EUV 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 '멀티 패터닝' 공정을 줄이고 패터닝 정확도를 높입니다.

이를 통해 성능과 수율을 향상시키고 제품 개발 기간을 단축할 수 있습니다.

그동안 삼성전자는 3세대 10나노급 D램까지는 EUV공정을 도입하지 않았지만, 미세공정의 한계에 부딪히자 EUV 카드를 꺼내든 것입니다.

EUV를 이용해 만든 4세대 10나노급 D램과 기존 1세대 10나노급 D램을 비교하면, 12인치 웨이퍼당 생산성이 2배 높아집니다.

삼성전자는 내년에 성능과 용량을 더욱 높인 4세대 10나노급 D램을 본격 양산하고 5세대, 6세대 D램도 선행 개발해 메모리 반도체 초격차를 이어가겠다는 전략입니다.

또한 올해 하반기 평택 신규 라인을 가동해 차세대 프리미엄 D램 수요에 안정적으로 대응할 수 있는 양산 체제를 구축할 계획입니다.

오늘(25일) 이재용 삼성전자 부회장은 삼성 미래기술의 산실인 삼성종합기술원을 찾아 '기술 초격차'에 대한 의지를 분명히 하기도 했습니다.

이 부회장은 AI 반도체부터 SW알고리즘, 양자컴퓨팅 기술 등 선행기술 전략을 점검하고 기술 혁신을 강조했습니다.

이 부회장은 "어렵고 힘들 때일수록 미래를 철저히 준비해야한다"며
"국민 성원에 보답할 수 있는 길은 혁신"이라고 강조했습니다.

삼성이 전세계를 휩쓸고 있는 '코로나19' 위기를 기술 초격차로 극복할 수 있을 지 주목됩니다.

머니투데이방송 조은아입니다.


조은아 머니투데이방송 MTN 기자

조은아기자

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IT업계 전반을 취재합니다. 세상의 기술(技術)을 기술(記述)하겠습니다.

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